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聚焦离子束电镜究竟有何不同？
随着纳米科技的发展，纳米尺度制造业发展迅速，而纳米加工就是纳米制造业的核心部分，纳米加工的代表性方法就是聚焦离子束。近年来发展起来的聚焦离子束(FIB)技术利用高强度聚焦离子束对材料进行纳米加工，配合聚焦离子束电镜等高倍数ylzz总站实时观察，成为了纳米级分析、制造的主要方法。目前已广泛应用于半导体集成电路修改、切割和故障分析等。典型的聚焦离子束电镜包括液态金属离子源及离子引出极、预聚焦极、聚焦极所用的高压电源、电对中、消像散电子透镜、扫描线圈、二次粒子检测器、可移动的样品基座...
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一文带你认识球差电镜！
球差电镜，什么是球差？球差是像差的一种，是影响TEM分辨率的主要原因之一。由于像差(球差、像散、彗形像差和色差)的存在，无论是光学透镜还是电磁透镜，其透镜系统都无法做到。光学透镜中，可通过将凸透镜和凹透镜组合使用来减少由凸透镜边缘汇聚能力强中心汇聚能力弱所致的所有的光线(电子)无法汇聚到一个焦点的缺点，可对于电磁透镜，我们没有凹透镜，球差便成了影响TEM分辨率最主要也最难解决的问题。球差电镜，球差是由什么产生的？TEM中包含多个磁透镜：聚光镜、物镜、中间镜和投影镜等。球差是由...
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高分辨率扫描电镜的检测范围和基本构造
高分辨率扫描电镜是ylzz总站的一种，其原理是利用二次电子或背散射电子成像，对样品表面放大一定的倍数进行形貌观察，同时利用电子激发出样品表面的特征X射线来对微区的成分进行定性定量分析，是我们材料研究分析中一双亮丽的“眼睛”。扫描电镜按照电子枪分类可以分为钨(W)灯丝、六硼化镧(LaB6)灯丝、场发射三种，场发射扫描电镜相比于钨灯丝、六硼化镧，具有电子束斑小、高分辨率、稳定性好等特点。高分辨率扫描电镜的检测范围：1.金属、陶瓷、高分子、矿物、半导体、纸张、化工产品的显微形貌观察及...
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PFIB显微镜的小知识，快来学习一下！
PFIB显微镜是一款双束电镜，它可以简单理解为单束聚焦离子束系统与普通SEM的耦合。单束聚焦离子束系统由离子源、离子光学柱、束描画系统、信号采集系统和样品台五个部分构成。离子源设置在离子束镜筒的顶端，在其上加较强的电场可以抽取出带正电荷的离子，这些离子通过静电透镜及偏转装置的聚焦和偏转来实现对样品的可控扫描。样品加工是通过将加速的离子轰击样品使其表面原子发生溅射来实现，同时产生的二次电子和二次离子被相应的探测器收集并用于成像。为了避免离子束受周围气体分子的影响，与扫描电镜类似...
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环扫电镜常见分类和应用领域
环扫电镜是一种扫描ylzz总站，利用聚焦电子束扫描样品的表面来产生样品表面的图像。最常见的扫描电镜模式是检测由电子束激发的原子发射的二次电子。可以检测的二次电子的数量，取决于样品测绘学形貌。环扫电镜常见分类：1.分析扫描电镜:扫描电镜配备X射线能谱仪EDS后发展成分析扫描电镜，不仅比X射线波谱仪WDS分析速度快、灵敏度高、也可进行定性和无标样定量分析。2.场发射枪扫描电镜：场发射扫描电镜得到了很大的发展，不仅提高了常规加速电压时的分辨本领，还显著改善了低压性能。3.低压扫描电镜...
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环境扫描ylzz总站的工作原理和仪器特点
环境扫描ylzz总站工作原理：电子与样品中的原子相互作用，产生包含关于样品的表面测绘学形貌和组成的信息的各种信号。电子束通常以光栅扫描图案扫描，并且光束的位置与检测到的信号组合以产生图像。扫描ylzz总站由电子枪发射出电子束，在加速电压的作用下经过磁透镜系统汇聚，形成电子束，聚焦在样品表面上，在第二聚光镜和物镜之间偏转线圈的作用下，电子束在样品上做光栅状扫描，电子和样品相互作用产生信号电子。这些信号电子经探测器收集并转换为光子，再经过电信号放大器加以放大处理，成像在显示系统上。环...
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透射扫描ylzz总站的核心优势介绍，请收好！
透射扫描ylzz总站既有透射ylzz总站又有扫描ylzz总站的显微镜，可以将样品冷却到液氮温度，特别适用于观测蛋白、生物切片等对温度敏感的样品。通过对样品的冷冻，可以降低电子束对样品的损伤，减小样品的形变，从而得到更加真实的样品形貌。透射扫描ylzz总站成像是利用会聚的电子束在样品上扫描来完成的。在扫描模式下，场发射电子源发射出电子，通过在样品前磁透镜以及光阑把电子束会聚成原子尺度的束斑。电子束斑聚焦在试样表面后，通过线圈控制逐点扫描样品的一个区域。在每扫描一点的同时，样品下面的探测...
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场发射电镜真的那么好用吗？
场发射电镜是ylzz总站的一种，是以场发射电子发射体发射电子，并以电子束为光源，在真空状态下通过电磁透镜控制电子束汇集成很小的束斑照射并透过样品。由于电子的德布罗意波长非常短，可以获得样品原子级微观形貌。其原理是利用二次电子或背散射电子成像，对样品表面放大一定的倍数进行形貌观察，同时利用电子激发出样品表面的特征X射线来对微区的成分进行定性定量分析。具有电子束斑小、高分辨率、稳定性好等特点。场发射电镜有以下几种用途：1.纳米材料基本特性分析：对有机、无机、纳米材料进行微观形态研究...
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FIB双束扫描电镜是什么？他又有那些用途？
随着半导体电子器件及集成电路技术的飞速发展，器件及电路结构越来越复杂，这对微电子芯片工艺诊断、失效分析、微纳加工的要求也越来越高。FIB双束扫描电镜所具备的强大的精细加工和微观分析功能，使其广泛应用于微电子设计和制造领域。FIB双束扫描电镜是指同时具有聚焦离子束(FocusedIonBeam，FIB)和扫描ylzz总站(ScanningElectronMicroscope，SEM)功能的仪器。它可以实现SEM实时观测FIB微加工过程的功能，把电子束高空间分辨率和离子束精细加工的...
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聚焦离子束显微镜原来可以用于这些地方！
聚焦离子束显微镜的利用镓(Ga)金属作为离子源，再加上负电场(Extractor)牵引端细小的镓原子，而导出镓离子束再以电透镜聚焦，经过一连串可变孔径光阑，决定离子束的大小，再经过二次聚焦以很小的束斑轰击样品表面，利用物理碰撞来进行特定图案的加工，一般单粒子束的显微镜，可以提供材料切割、沉积金属、蚀刻金属和选择性蚀刻氧化层等功能。聚焦离子束显微镜主要应用于半导体集成电路修改、切割和故障分析、TEM制样等。1.精细切割及材料蒸镀：利用显微镜可以在素玻璃上分别进行镓离子精细切割及...
