场发射电镜是ylzz总站的一种，是以场发射电子发射体发射电子，并以电子束为光源，在真空状态下通过电磁透镜控制电子束汇集成很小的束斑照射并透过样品。由于电子的德布罗意波长非常短，可以获得样品原子级微观形貌。其原理是利用二次电子或背散射电子成像，对样品表面放大一定的倍数进行形貌观察，同时利用电子激发出样品表面的特征X射线来对微区的成分进行定性定量分析。具有电子束斑小、高分辨率、稳定性好等特点。
场发射电镜有以下几种用途：
1.纳米材料基本特性分析：对有机、无机、纳米材料进行微观形态研究，获得其表面形貌。利用TEM获得材料整体形貌，由高分辨像获得晶面间距及以选区电子衍射像对材料进行物相标定，得知其属于立方晶系。
2.合金成分分析：反应堆包壳材料特性研究，在合金注入多种金属元素，通过TEM进行形貌及成分分析，可明显观察到合金基体中析出相的不同形貌及分布，通过EDS点扫描分析不同形貌析出相的成分信息。为了解区域内合金各元素的分布情况，可采用面扫描方式进行分析，获得各元素在合金基体内的分布情况。
3.其他用途：碳纳米管，石墨SEM形貌观察；LED荧光填充物进行成分分析；粉末样品的粒度分析测量；金属镀层厚度测量；金属间化合物观察与测量；断口分析等等。
关于场发射电镜的介绍就到这里了，希望这篇文章能对你有所帮助！
