聚焦离子束扫描ylzz总站系统的原理和功能介绍

聚焦离子束扫描ylzz总站（Focused Ion Beam-Scanning Electron Microscope,简称FIB-SEM）双束系统是指同时具备聚焦离子束（FIB）和扫描ylzz总站（SEM）功能的系统。

系统原理：首先离子源产生离子束被聚光镜汇聚为极细的聚焦离子束，聚焦离子束通过控制线圈控制对指定的位置进行加工刻蚀；电子源产生电子束被聚光镜汇聚为极细的聚焦电子束，聚焦电子束通过扫描线圈对样品进行扫描，获得各个被加工位置的实时图像，从而实现对加工过程的实时监控。

聚焦离子束扫描ylzz总站主要功能包括:

①电子束成像，用于定位样品、获取微观结构和监测加工过程;

②离子束刻蚀，用于截面观察和图形加工;

③气体沉积，用于图形加工和样品制备;

④显微切割制备微米大小纳米厚度的超薄片试样(厚度小于＜100 nm)，用于后续的TEM和同步辐射STXM等相关分析;

⑤显微切割制备纳米尺寸的针尖状样品，用于后续的APT分析，获取其微量元素和同位素信息;

⑥综合SEM成像、FIB切割及EDXS化学分析，对试样进行微纳尺度的三维重构分析等。