你的位置:首页 > 技术文章 > 场发射扫描电镜的工作原理和应用领域介绍

技术文章

场发射扫描电镜的工作原理和应用领域介绍

技术文章
  场发射扫描电镜采用更为先进的肖脱基场发射光源。采用场发射光源后电子束能量更强,二次电子相(也就是我们平时所说的扫描照片)更加清晰,放大倍数在理想的情况下可以达到10万倍以上。同时,在进行EBSD的测试中也具有相当的优势。主要由电子光学系统、信号收集处理系统、真空系统、图像处理显示和记录系统、样品室样品台、电源系统和计算机控制系统等组成。
 
  场发射扫描电镜的工作原理
 
  扫描ylzz总站是以能量为1—30kV间的电子束,以光栅状扫描方式照射到被分析试样的表面上,利用入射电子和试样表面物质相互作用所产生的二次电子和背散射电子成像,获得试样表面微观组织结构和形貌信息。配置波谱仪和能谱仪,利用所产生的X射线对试样进行定性和定量化学成分分析。
 
  场发射扫描电镜的应用领域
 
  适用于纳米材料精细形貌的观察,可薛利高质量高分辨二次电子图像。该仪器配备的X射线能谱仪可对块状样品做定性及半定量分析。可向样品室充入多种气体,在低真空下仍能获得优于2nm的高分辨图像;可向样品室通入水蒸气,使含水、含油及不导样品可直接观察;可在样品室内对样品做加温、低温处理,对化学反应过程进行实时观测。该设备适用于物理、材料、半导体、超导体、化学高分子、地质矿物、生物、医学等领域的微观研究和分析。

联系我们

地址:北京市朝阳区惠河南街1100号2栋ylzz总站 传真: Email:sale@opton.com.cn
24小时在线客服,为您服务!

版权所有 © 2024 ylzz总站 备案号:京ICP备17017767号-4 技术支持:化工仪器网 管理登陆 GoogleSitemap